20奈米製程

台積公司於2014年領先全球半導體製造業成功以雙重曝刻(Double Patterning)量產客戶20奈米產品, 並於該年度締造最快速產能提升(fastest ramping)紀錄。

由於具備能源效率更佳的電晶體及導線,並藉由導入領先全球的雙重曝刻(Double patterning)技術,在效能及功耗方面皆較前幾代製程技術更具競爭優勢。與28奈米製程技術相較,台積公司20奈米製程技術效能增加了15%,晶片總耗電減少了三分之一,更能滿足效能導向產品及更先進行動運算產品的應用。

20奈米製程

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