90奈米製程

台積公司領先全球於2004年12月日本半導體展(SEMICON Japan)中,發表已順利使用浸潤式曝光(Immersion Lithography)機台產出90奈米晶片、並通過功能驗證的研究成果。

台積公司創新的浸潤式曝光技術,採用以水為介質的一九三奈米浸潤式曝光機,取代傳統的一五七奈米乾式曝光機,改寫了全球半導體產業的曝光機規格。此項創新不僅進一步強化台積公司的技術領導地位,更協助全球半導體業突破摩爾定律(Moore’s Law)的挑戰,得以繼續推進更先進的製程技術。

90奈米製程

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